反应溅射Nb-Si-N薄膜的微结构与力学性能

• 作者: 刘艳 戴嘉维 李戈扬 董云杉
• 来源期刊: 上海交通大学学报
• 学科: 物理学
• 关键词: Nb-Si-N薄膜 反应溅射 微结构 力学性能
• 年，卷（期）: 2006,（10）
• 所属期刊栏目: 金属学与金属工艺
• 页码范围: 1763-1766
• 页数: 4页
• 分类号: O484.4
• 字数: 2841字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1006-2467.2006.10.030

摘要

在Ar、N2和SiH4混合气体中,通过反应磁控溅射方法制备了一系列不同Si含量的Nb-Si-N复合薄膜,采用EDS、XRD、TEM、AFM和微力学探针表征了复合薄膜的成分、相组成、微结构和力学性能.结果表明,采用反应磁控溅射技术通过控制混合气体中SiH4分压可以方便地获得不同Si含量的Nb-Si-N薄膜.少量Si的加入使薄膜得到强化,并在Si含量为3.4%时达到硬度和弹性模量的最高值,分别为53 GPa和521 GPa.进一步增加Si含量,薄膜的硬度和弹性模量逐步降低.Nb-Si-N薄膜力学性能的提高与其晶体缺陷的增加有关.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	董云杉	上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室	16	108	6.0	9.0
2	李戈扬	上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室	109	1036	18.0	25.0
3	戴嘉维	上海交通大学高温材料与高温测试教育部重点实验室	18	231	7.0	15.0
4	刘艳	上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室	92	288	10.0	13.0