新型小分子液晶有机蒙脱土的制备与表征

• 作者: 张彩云 李明华 沈金平 章于川
• 来源期刊: 合成化学
• 关键词: 液晶插层剂 蒙脱土 有机化 层间距
• 年，卷（期）: 2006,（6）
• 所属期刊栏目: 研究简报
• 页码范围: 615-617
• 页数: 3页
• 分类号: O61
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1005-1511.2006.06.022

摘要

运用自制的两种新型小分子液晶插层剂对蒙脱土进行有机化修饰,并用IR,XRD,TG及TEM等对有机蒙脱土结构和性能进行了表征与分析.结果表明:有机蒙脱土的层间距由1.00nm分别增大到2.50 nm和2.88 nm,且能分散均匀,排列疏松,耐热性能也有了显著提高.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	章于川	安徽大学化学化工学院	137	802	14.0	17.0
2	沈金平	安徽大学化学化工学院	8	26	4.0	4.0
6	张彩云	安徽大学化学化工学院	4	10	2.0	3.0
7	李明华	安徽大学化学化工学院	5	29	4.0	5.0