SiC薄膜的化学汽相沉积及其研究进展

• 作者: 于威 康建波 彭英才 简红彬 马蕾
• 来源期刊: 微纳电子技术
• 学科: 工学
• 关键词: SiC薄膜 化学汽相沉积 物理性质 器件应用
• 年，卷（期）: 2006,（1）
• 所属期刊栏目: 纳米材料与结构
• 页码范围: 11-15
• 页数: 5页
• 分类号: TN304.18|TN304.055
• 字数: 4652字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-4776.2006.01.003

摘要

介绍了SiC薄膜的一种主要制备方法--化学汽相沉积(CVD)法制备SiC薄膜的近年研究进展,并对所制备薄膜的结构特征与物理性质进行了简要评述.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	于威	河北大学物理科学与技术学院	91	346	9.0	13.0
2	简红彬	河北大学电子信息工程学院	4	60	4.0	4.0
3	康建波	河北大学电子信息工程学院	5	63	4.0	5.0
4	马蕾	河北大学电子信息工程学院	43	157	8.0	10.0
5	彭英才	河北大学电子信息工程学院	103	593	12.0	19.0