一种基于低温多晶硅TFT技术的柔性8位异步微处理器

• 作者: Hiroaki Ebihara Nobuo Karaki Satoshi Inoue Takashi Nanmoto Tatsuya Shimoda 代永平
• 来源期刊: 现代显示
• 学科: 工学
• 关键词: 低温多晶硅 激光退火表面刻蚀 异步微处理器
• 年，卷（期）: 2006,（4）
• 页码范围: 30-34
• 页数: 5页
• 分类号: TN141.9
• 字数: 1456字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-6268.2006.04.006

摘要

介绍基于低温多晶硅TFT技术和采用激光退火表面刻蚀技术的柔性8位异步微处理器,并且给出了异步电路描述语言Verilog+.32,000个晶体管的微处理器在500kHz,5V的条件下消耗电流180mA,功耗是同步微处理器的30%.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	代永平		74	390	12.0	16.0
2	Nobuo Karaki	精工爱普生公司技术平台中心	1	0	0.0	0.0
3	Takashi Nanmoto	精工爱普生公司技术平台中心	1	0	0.0	0.0
4	Hiroaki Ebihara	精工爱普生公司技术平台中心	1	0	0.0	0.0
5	Satoshi Inoue	精工爱普生公司技术平台中心	1	0	0.0	0.0
6	Tatsuya Shimoda	精工爱普生公司技术平台中心	1	0	0.0	0.0