电子束低温蒸发ITO膜增透、增反特性研究

• 作者: 何俊峰 刘召军 崔光龙 张德贤 李胜林 赵飞 齐龙茵
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: ITO 增透 增反 柔性衬底 电子束蒸发
• 年，卷（期）: 2006,（6）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 8-10
• 页数: 3页
• 分类号: TB43
• 字数: 1692字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-0322.2006.06.003

摘要

本实验是在低温条件下,采用电子束蒸发制备ITO透明导电薄膜,通过监测电阻来控制薄膜的厚度,通过控制薄膜厚度研究了增透和增反两种效果的ITO膜的制备及膜的光学特性.当膜厚达170 nm和83 nm时透过率和反射率可达95%和6%.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张德贤	南开大学电子科学与技术系	22	77	5.0	8.0
2	刘召军	南开大学电子科学与技术系	4	4	1.0	1.0
3	李胜林	南开大学电子科学与技术系	4	28	3.0	4.0
4	齐龙茵	南开大学电子科学与技术系	2	7	1.0	2.0
5	何俊峰	南开大学电子科学与技术系	1	1	1.0	1.0
6	崔光龙	南开大学电子科学与技术系	1	1	1.0	1.0
7	赵飞	南开大学电子科学与技术系	1	1	1.0	1.0