LF4铝合金微弧氧化膜的性能

• 作者: 康凤娣 张弘 田彦文 邵忠财 郝清伟
• 来源期刊: 材料研究学报
• 学科: 工学
• 关键词: 材料失效与保护 微弧氧化 LF4铝合金 耐蚀性
• 年，卷（期）: 2006,（5）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 528-532
• 页数: 5页
• 分类号: TG1
• 字数: 3127字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1005-3093.2006.05.016

摘要

将LF4铝合金在次亚磷酸钠复合体系中进行微弧氧化,研究了工艺条件对微弧氧化膜层的成膜速率和耐蚀性的影响.结果表明,电流密度、氧化时间、氧化液温度和搅拌强度等工艺条件对微弧氧化膜层的性能有很大的影响,找出了最佳工艺参数,并制备出厚度达80 μm耐蚀性强的微弧氧化陶瓷膜.微弧氧化膜主要由Al、Si和O元素及少量P组成,其结构由致密层(内层)和疏松层(外层)构成,疏松层有许多气孔,内层光滑致密,具有很强的耐蚀性能.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	田彦文	东北大学材料与冶金学院	253	3164	27.0	41.0
2	邵忠财	沈阳理工大学环境与化学工程学院	143	1094	18.0	26.0
3	郝清伟	沈阳理工大学环境与化学工程学院	15	103	5.0	9.0
4	张弘	沈阳理工大学环境与化学工程学院	2	29	2.0	2.0
5	康凤娣	沈阳理工大学环境与化学工程学院	1	12	1.0	1.0