AlN陶瓷基片低温烧结性能的研究

• 作者: 刘欣 李家科
• 来源期刊: 陶瓷
• 学科: 工学
• 关键词: 流延成形 烧结助剂 烧成制度 烧结性能 体积密度
• 年，卷（期）: 2006,（11）
• 所属期刊栏目: 研究与开发
• 页码范围: 14-16
• 页数: 3页
• 分类号: TQ17
• 字数: 2087字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-2872.2006.11.004

摘要

采用流延成形法制备AlN陶瓷基片,研究了烧结助剂、烧成温度和保温时间对AlN陶瓷基片烧结性能的影响.结果表明:在烧结助剂(CaF2-YF3)的添加量为4%、烧成温度为1 650 ℃、保温3 h,能得到结构致密的AlN陶瓷基片,体积密度达3.25 g/cm3.采用XRD、SEM等检测手段对AlN陶瓷基片的物相和形貌进行了分析,揭示AlN陶瓷基片烧结性能与工艺参数之间的关系.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李家科	景德镇陶瓷学院材料科学与工程学院	80	315	8.0	14.0
2	刘欣	景德镇陶瓷学院材料科学与工程学院	66	193	7.0	11.0