BEPCⅡ正电子源

• 作者: 刘念宗 刘晋通 刘玉成 孙耀霖 池云龙 裴国玺
• 来源期刊: 高能物理与核物理
• 学科: 物理学
• 关键词: 正电子源 磁通压缩器 转换靶 脉冲电源
• 年，卷（期）: 2006,（1）
• 所属期刊栏目: 加速器
• 页码范围: 66-70
• 页数: 5页
• 分类号: O57
• 字数: 829字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0254-3052.2006.01.016

摘要

BEPCⅡ是一粒子工厂型的正负电子对撞机,为北京正负电子对撞机(BEPC)的改造、升级工程.它对直线注入器的基本要求是40mA,1.89GeV的正电子束流,发射度1.6μm,能散度好于士0.5%,保证储存环的注入速率≥50mA/min,实现TOP OFF注入方式.因为正电子流强与打靶电子束流功率成正比,采用一把新的10A电子枪来提高打靶电流,采用新加速结构和65MW速调管SLAC5045把目前140MeV的打靶能量提高到240MeV.正电子源本身也是一非常关键、极其复杂的系统,它包括正电子转换靶室、12kA"磁号"脉冲电源、7m长聚焦节、大功率直流电源和支架等.目前,正电子产生加速器,从电子枪直到正电子源,已经安装到了BEPC直线加速器隧道.本文将着重介绍正电子源系统的设计、加工和测试.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘晋通	中国科学院高能物理研究所	6	15	2.0	3.0
2	孙耀霖	中国科学院高能物理研究所	5	7	2.0	2.0
3	裴国玺	中国科学院高能物理研究所	28	110	7.0	8.0
4	池云龙	中国科学院高能物理研究所	20	45	4.0	5.0
5	刘玉成	中国科学院高能物理研究所	6	183	4.0	6.0
6	刘念宗	中国科学院高能物理研究所	2	1	1.0	1.0