钛学术
文献服务平台
学术出版新技术应用与公共服务实验室出品
首页
论文降重
免费查重
学术期刊
学术导航
任务中心
论文润色
登录
文献导航
学科分类
>
综合
工业技术
科教文艺
医药卫生
基础科学
经济财经
社会科学
农业科学
哲学政法
社会科学II
哲学与人文科学
社会科学I
经济与管理科学
工程科技I
工程科技II
医药卫生科技
信息科技
农业科技
数据库索引
>
中国科学引文数据库
工程索引(美)
日本科学技术振兴机构数据库(日)
文摘杂志(俄)
科学文摘(英)
化学文摘(美)
中国科技论文统计与引文分析数据库
中文社会科学引文索引
科学引文索引(美)
中文核心期刊
cscd
ei
jst
aj
sa
ca
cstpcd
cssci
sci
cpku
默认
篇关摘
篇名
关键词
摘要
全文
作者
作者单位
基金
分类号
搜索文章
搜索思路
钛学术文献服务平台
\
学术期刊
\
工业技术期刊
\
动力工程期刊
\
太阳能学报期刊
\
衬底材料对μc-Si:H薄膜结构特性的影响
衬底材料对μc-Si:H薄膜结构特性的影响
作者:
卢景霄
李瑞
杨仕娥
王海燕
陈永生
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
等离子体辅助化学气相沉积
拉曼散射谱
晶化率
团簇
摘要:
对在不锈钢和玻璃衬底上沉积的μc-Si:H薄膜进行了拉曼光谱和扫描电子显微(SEM)分析.拉曼分析显示在相同的工艺参数下,玻璃衬底上沉积的μc-Si:H薄膜的晶化率高于不锈钢衬底上沉积的薄膜,这可能是由于衬底与等离子体之间的电势差不同和衬底表面形貌两方面所致.SEM观察表明玻璃衬底上沉积的μc-Si:H薄膜由尺寸介于200~100nm的团簇构成.
暂无资源
收藏
引用
分享
推荐文章
H2气氛对采用MOCVD 法在Si 衬底上外延生长AlN薄膜性能的影响?
Si衬底
AlN薄膜
H2
MOCVD
电极间距对μc-Si1-xGex:H薄膜结构特性的影响
微晶硅锗
电极间距
滞留时间
射频等离子体增强化学气相沉积
衬底材料及基底温度对Sc膜形貌、结构的影响
电子束蒸发
钪
薄膜
衬底材料
基底温度
硼掺杂对μc-Si:H薄膜微结构和光电性能的影响
p型氢化微晶硅薄膜
掺硼比
晶化率
电导率
内容分析
文献信息
引文网络
相关学者/机构
相关基金
期刊文献
内容分析
关键词云
关键词热度
相关文献总数
(/次)
(/年)
文献信息
篇名
衬底材料对μc-Si:H薄膜结构特性的影响
来源期刊
太阳能学报
学科
工学
关键词
等离子体辅助化学气相沉积
拉曼散射谱
晶化率
团簇
年,卷(期)
2006,(2)
所属期刊栏目
研究方向
页码范围
116-120
页数
5页
分类号
TB611
字数
2308字
语种
中文
DOI
10.3321/j.issn:0254-0096.2006.02.002
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
陈永生
郑州大学物理工程学院材料物理重点实验室
67
484
11.0
19.0
2
王海燕
郑州大学物理工程学院材料物理重点实验室
62
372
11.0
16.0
3
杨仕娥
郑州大学物理工程学院材料物理重点实验室
68
513
12.0
18.0
4
卢景霄
郑州大学物理工程学院材料物理重点实验室
100
570
12.0
17.0
5
李瑞
郑州大学物理工程学院材料物理重点实验室
35
173
8.0
11.0
传播情况
被引次数趋势
(/次)
(/年)
引文网络
引文网络
二级参考文献
(0)
共引文献
(0)
参考文献
(6)
节点文献
引证文献
(3)
同被引文献
(2)
二级引证文献
(1)
1999(3)
参考文献(3)
二级参考文献(0)
2000(1)
参考文献(1)
二级参考文献(0)
2003(1)
参考文献(1)
二级参考文献(0)
2004(1)
参考文献(1)
二级参考文献(0)
2006(0)
参考文献(0)
二级参考文献(0)
引证文献(0)
二级引证文献(0)
2007(1)
引证文献(1)
二级引证文献(0)
2010(1)
引证文献(1)
二级引证文献(0)
2015(2)
引证文献(1)
二级引证文献(1)
研究主题发展历程
节点文献
等离子体辅助化学气相沉积
拉曼散射谱
晶化率
团簇
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
太阳能学报
主办单位:
中国可再生能源学会
出版周期:
月刊
ISSN:
0254-0096
CN:
11-2082/TK
开本:
大16开
出版地:
北京市海淀区花园路3号
邮发代号:
2-165
创刊时间:
1980
语种:
chi
出版文献量(篇)
7068
总下载数(次)
14
总被引数(次)
77807
期刊文献
相关文献
1.
H2气氛对采用MOCVD 法在Si 衬底上外延生长AlN薄膜性能的影响?
2.
电极间距对μc-Si1-xGex:H薄膜结构特性的影响
3.
衬底材料及基底温度对Sc膜形貌、结构的影响
4.
硼掺杂对μc-Si:H薄膜微结构和光电性能的影响
5.
衬底温度对纳米晶硅薄膜微结构的影响
6.
CV I-GS I工艺制备C/C-Si C复合材料的组成结构与力学性能
7.
基底温度对c-Si(100)面生长a-Si∶H薄膜结构特性影响的分子动力学模拟研究
8.
a-Si(n)/c-Si(p)异质结电池非晶层的模拟优化
9.
退火对Y_2O_3薄膜结构和光学性能的影响
10.
退火对掺铟氧化锌薄膜结构及光学性能的影响
11.
温度对a-Si:H/c-Si异质结太阳能电池光伏特性的影响
12.
生长温度和退火气氛对ZnO:Al薄膜结构与性能的影响
13.
氢氦共同稀释对微晶硅锗薄膜结构特性的影响
14.
磁控溅射制备参数对ZnO薄膜结构和光学性能的影响
15.
C-Si模型分子动力学三维并行仿真算法
推荐文献
钛学术
文献服务平台
学术出版新技术应用与公共服务实验室出品
首页
论文降重
免费查重
学术期刊
学术导航
任务中心
论文润色
登录
根据相关规定,获取原文需跳转至原文服务方进行注册认证身份信息
完成下面三个步骤操作后即可获取文献,阅读后请
点击下方页面【继续获取】按钮
钛学术
文献服务平台
学术出版新技术应用与公共服务实验室出品
原文合作方
继续获取
获取文献流程
1.访问原文合作方请等待几秒系统会自动跳转至登录页,首次访问请先注册账号,填写基本信息后,点击【注册】
2.注册后进行实名认证,实名认证成功后点击【返回】
3.检查邮箱地址是否正确,若错误或未填写请填写正确邮箱地址,点击【确认支付】完成获取,文献将在1小时内发送至您的邮箱
*若已注册过原文合作方账号的用户,可跳过上述操作,直接登录后获取原文即可
点击
【获取原文】
按钮,跳转至合作网站。
首次获取需要在合作网站
进行注册。
注册并实名认证,认证后点击
【返回】按钮。
确认邮箱信息,点击
【确认支付】
, 订单将在一小时内发送至您的邮箱。
*
若已经注册过合作网站账号,请忽略第二、三步,直接登录即可。
期刊分类
期刊(年)
期刊(期)
期刊推荐
一般工业技术
交通运输
军事科技
冶金工业
动力工程
化学工业
原子能技术
大学学报
建筑科学
无线电电子学与电信技术
机械与仪表工业
水利工程
环境科学与安全科学
电工技术
石油与天然气工业
矿业工程
自动化技术与计算机技术
航空航天
轻工业与手工业
金属学与金属工艺
太阳能学报2022
太阳能学报2021
太阳能学报2020
太阳能学报2019
太阳能学报2018
太阳能学报2017
太阳能学报2016
太阳能学报2015
太阳能学报2014
太阳能学报2013
太阳能学报2012
太阳能学报2011
太阳能学报2010
太阳能学报2009
太阳能学报2008
太阳能学报2007
太阳能学报2006
太阳能学报2005
太阳能学报2004
太阳能学报2003
太阳能学报2002
太阳能学报2001
太阳能学报2000
太阳能学报1999
太阳能学报1998
太阳能学报2006年第9期
太阳能学报2006年第8期
太阳能学报2006年第7期
太阳能学报2006年第6期
太阳能学报2006年第5期
太阳能学报2006年第4期
太阳能学报2006年第3期
太阳能学报2006年第2期
太阳能学报2006年第12期
太阳能学报2006年第11期
太阳能学报2006年第10期
太阳能学报2006年第1期
关于我们
用户协议
隐私政策
知识产权保护
期刊导航
免费查重
论文知识
钛学术官网
按字母查找期刊:
A
B
C
D
E
F
G
H
I
J
K
L
M
N
O
P
Q
R
S
T
U
V
W
X
Y
Z
其他
联系合作 广告推广: shenyukuan@paperpass.com
京ICP备2021016839号
营业执照
版物经营许可证:新出发 京零 字第 朝220126号