脉冲真空放电离子密度的测量

• 作者: 严一心 弥谦 蔡长龙 马卫红
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: 脉冲电弧 离子镀 离子密度 类金刚石膜
• 年，卷（期）: 2006,（1）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 43-46
• 页数: 4页
• 分类号: TN105
• 字数: 2724字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-0322.2006.01.013

摘要

由于采用脉冲放电沉积技术能够克服连续电弧离子镀沉积时产生的液滴及负偏压放电的缺点,特别是它在镀制类金刚石薄膜中显示出来的独特性能:不含氢和硬度高,使其在薄膜沉积技术中越来越受到广大研究者的重视.为了更深入地研究薄膜的沉积工艺和薄膜性能之间的关系,迫切需要对脉冲真空放电等离子体的微观参数进行深入透彻的研究,如离子密度及其空间分布等.本文介绍了测量脉冲真空电弧离子源离子密度的方法,并采用该方法测量了脉冲真空电弧离子源离子密度及其空间分布,分析和研究了影响离子空间分布的各种参数.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	弥谦	西安工业学院光电工程学院	60	260	9.0	14.0
2	严一心	西安工业学院光电工程学院	43	232	9.0	12.0
3	蔡长龙	西安工业学院光电工程学院	82	319	8.0	14.0
4	马卫红	西安工业学院光电工程学院	40	311	10.0	16.0