射频磁控溅射制备掺Al的纳米Si-SiO2复合薄膜及其光致发光特性

• 作者: 杨琳琳 王启明 郭亨群
• 来源期刊: 功能材料
• 学科: 化学
• 关键词: Al-Si-SiO2薄膜 磁控溅射 光致发光
• 年，卷（期）: 2006,（11）
• 所属期刊栏目: 研究与开发
• 页码范围: 1706-1708
• 页数: 3页
• 分类号: O6
• 字数: 2173字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1001-9731.2006.11.005

摘要

采用射频磁控技术和退火处理制备掺Al的纳米Si-SiO2复合薄膜.通过X射线衍射(XRD)、X射线光电子能谱(XPS)和傅里叶变换红外光谱(FTIR)表征了薄膜的结构,组分和成键情况.掺Al在SiO2中造成氧空位,使薄膜光致发光强度增强,并出现新的发光峰.退火温度对掺Al薄膜的光致发光的峰位和峰强有较大影响.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王启明	中国科学院半导体研究所	118	735	14.0	20.0
2	郭亨群	华侨大学信息科学与工程学院	40	180	8.0	11.0
3	杨琳琳	华侨大学信息科学与工程学院	3	1	1.0	1.0