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1 444 nm Nd:YAG激光输出效率的理论分析
1 444 nm Nd:YAG激光输出效率的理论分析
作者:
刘丰满
刘珍峰
周海
李正佳
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
放大自发辐射
激发态吸收
速率方程
输出效率
摘要:
从激光晶体能级结构出发,利用速率方程,分析了Nd:YAG激光系统的放大自发辐射(Amplified Spontaneous Emission,ASE)和激发态吸收(Excited State Absorption,ESA)对激光输出的影响.介绍了输出耦合及抽运和热效应对1 444 nm激光输出的影响.在反射率为0.80~0.95之间,输出耦合对输出效率影响不明显.
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文献信息
篇名
1 444 nm Nd:YAG激光输出效率的理论分析
来源期刊
光学与光电技术
学科
工学
关键词
放大自发辐射
激发态吸收
速率方程
输出效率
年,卷(期)
2006,(4)
所属期刊栏目
激光技术
研究方向
页码范围
29-31
页数
3页
分类号
TN241
字数
1974字
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1672-3392.2006.04.009
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
李正佳
华中科技大学激光加工研究中心
82
537
11.0
18.0
2
周海
华中科技大学激光加工研究中心
10
27
3.0
5.0
3
刘丰满
华中科技大学激光加工研究中心
1
4
1.0
1.0
4
刘珍峰
华中科技大学激光加工研究中心
3
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传播情况
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引文网络
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节点文献
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1974(1)
参考文献(0)
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参考文献(0)
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2006(2)
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2007(2)
引证文献(1)
二级引证文献(1)
2009(1)
引证文献(1)
二级引证文献(0)
2015(1)
引证文献(0)
二级引证文献(1)
研究主题发展历程
节点文献
放大自发辐射
激发态吸收
速率方程
输出效率
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
光学与光电技术
主办单位:
华中光电技术研究所
武汉光电国家实验室
湖北省光学学会
出版周期:
双月刊
ISSN:
1672-3392
CN:
42-1696/O3
开本:
大16开
出版地:
武汉市阳光大道717号
邮发代号:
38-335
创刊时间:
2003
语种:
chi
出版文献量(篇)
2142
总下载数(次)
3
总被引数(次)
9791
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