Ni-P非晶薄膜晶化相与相变动力学的XRD分析

• 作者: 吴建生 姜传海 洪波 王新建
• 来源期刊: 金属学报
• 学科: 工学
• 关键词: Ni-P非晶薄膜 晶化过程 原位XRD 激活能 结晶度
• 年，卷（期）: 2006,（7）
• 页码范围: 699-702
• 页数: 4页
• 分类号: TB383
• 字数: 3236字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0412-1961.2006.07.005

摘要

用原位XRD技术分析了连续加热过程中电沉积Ni-P薄膜晶化与相变行为.通过定量分析,确定出不同温度下各相的析出量,由此计算出各相的晶化与相变激活能以及晶化结晶度.结果表明,Ni-P非晶薄膜的晶化与相变行为与薄膜中P的含量有关.在晶化过程中出现了四种亚稳相即NiP,Ni2P,Ni12P5及Ni5P2.计算得到:亚稳相NiP,Ni2P及稳定相Ni3P的相变激活能分别为133±15,172±1g及190±20 kJ/mol;单个析出相的相变激活能低于Ni-P合金晶化激活能和Ni原子的自扩散激活能.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吴建生	上海交通大学材料科学与工程学院高温材料及高温测试教育部重点实验室	141	1402	19.0	30.0
2	姜传海	上海交通大学材料科学与工程学院高温材料及高温测试教育部重点实验室	46	243	9.0	13.0
3	王新建	上海交通大学材料科学与工程学院高温材料及高温测试教育部重点实验室	3	34	3.0	3.0
4	洪波	上海交通大学材料科学与工程学院高温材料及高温测试教育部重点实验室	16	91	5.0	9.0