均匀沉淀法合成纳米四氧化三钴工艺优化

• 作者: 尹国强 廖列文 张明月 梁世强
• 来源期刊: 无机盐工业
• 关键词: 均匀沉淀法 纳米四氧化三钴 均匀设计
• 年，卷（期）: 2006,（7）
• 所属期刊栏目: 研究与开发
• 页码范围: 21-24
• 页数: 4页
• 分类号: TQ128.1
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-4990.2006.07.007

摘要

在均匀沉淀法合成纳米四氧化三钴的过程中,采用了均匀设计方法对合成工艺过程进行优化设计.依据纳米四氧化三钴粒径试验结果,经过回归分析,建立了产物粒径与相关工艺条件的回归方程,由回归系数确定各因素的影响,进而筛选出合成纳米四氧化三钴的最优条件.在优化的条件下得到的纳米四氧化三钴粒径为22 nm.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	廖列文	仲凯农业技术学院绿色化工研究所	5	86	4.0	5.0
2	尹国强	仲凯农业技术学院绿色化工研究所	3	68	3.0	3.0
3	张明月		7	48	4.0	6.0
4	梁世强	仲凯农业技术学院绿色化工研究所	3	52	3.0	3.0