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摘要:
硅基单电子晶体管是一种极具潜力的新型量子器件.大多数硅基单电子晶体管的制备方法可以很好地与主流的CMOS工艺兼容.介绍了硅基单电子晶体管一些典型的具体制备工艺和方法以及该领域近年来的研究热点.
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文献信息
篇名 硅基单电子晶体管的制备
来源期刊 微纳电子技术 学科 工学
关键词 硅基单电子晶体管 制备方法 硅-绝缘体技术 电子束曝光
年,卷(期) 2006,(2) 所属期刊栏目 纳米器件与技术
研究方向 页码范围 73-79
页数 7页 分类号 TN321
字数 2852字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1671-4776.2006.02.002
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 张杨 中国科学院半导体研究所 43 179 7.0 12.0
2 韩伟华 中国科学院半导体研究所 20 98 5.0 9.0
3 杨富华 中国科学院半导体研究所 49 227 9.0 14.0
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研究主题发展历程
节点文献
硅基单电子晶体管
制备方法
硅-绝缘体技术
电子束曝光
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
微纳电子技术
月刊
1671-4776
13-1314/TN
大16开
石家庄市179信箱46分箱
18-60
1964
chi
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