纳米氧化硅在玻璃基片表面亚纳米级抛光中的应用

• 作者: 卢海参 张鹏珍 雷红
• 来源期刊: 润滑与密封
• 学科: 工学
• 关键词: 纳米氧化硅抛光液 玻璃基片 亚纳米级粗糙度 平面化
• 年，卷（期）: 2006,（1）
• 所属期刊栏目: 试验研究
• 页码范围: 31-34
• 页数: 4页
• 分类号: TH117
• 字数: 3238字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.0254-0150.2006.01.010

摘要

为满足先进电子产品对玻璃基片表面超光滑的要求,制备了一种纳米氧化硅抛光液,并研究了氧化硅粒子大小、抛光时间等参数对玻璃基片抛光后表面粗糙度、材料去除速率的影响.ZYGO形貌仪表明,采用纳米氧化硅抛光液,可以使玻璃表面粗糙度达到0.5 nm左右.AFM表明,抛光后的玻璃基片表面超光滑且无划痕等微观缺陷.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	雷红	上海大学纳米科学与技术中心	22	456	10.0	21.0
2	卢海参	上海大学纳米科学与技术中心	4	45	4.0	4.0
3	张鹏珍	上海大学纳米科学与技术中心	3	57	3.0	3.0