新型阴离子染料内添加剂APA-1220的分子设计及其助染性研究

• 作者: 兰云军 罗卫平 谷雪贤 银德海
• 来源期刊: 中国皮革
• 学科: 工学
• 关键词: 内添加剂 阴离子染料 助染性 匀染性
• 年，卷（期）: 2006,（5）
• 所属期刊栏目: 理论探讨·试验研究
• 页码范围: 23-26
• 页数: 4页
• 分类号: TQ61
• 字数: 3375字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-6813.2006.05.011

摘要

针对目前我国染料工业存在的问题及国内外阴离子染料的发展趋势,从分子结构的设计入手,合成了一种新型的阴离子染料内添加型的染色助剂APA-1220.通过对染色助剂APA-1220与阴离子染料NG-3的复配应用研究,证明该添加剂可从多方面提高阴离子染料的应用性能,具有匀染、增深增艳和固色的作用.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	兰云军	温州大学浙江省皮革工程重点实验室	149	815	14.0	20.0
2	谷雪贤	宁波职业技术学院工学院	8	78	5.0	8.0
3	罗卫平	温州大学浙江省皮革工程重点实验室	20	111	6.0	9.0
4	银德海	温州大学浙江省皮革工程重点实验室	18	136	7.0	11.0