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摘要:
综述了活性法陶瓷-金属封接工艺的新进展,强调指出:返烧经研磨的瓷件,用活性法同样可以得到高质量的陶瓷-金属封接件.
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内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 活性法陶瓷-金属封接工艺的新进展
来源期刊 真空电子技术 学科 工学
关键词 陶瓷-金属封接 活性法 新进展 质量 再烧结
年,卷(期) 2006,(4) 所属期刊栏目 电子陶瓷、陶瓷-金属封接与真空开关管用管壳的技术进步专辑
研究方向 页码范围 62-65
页数 4页 分类号 TB756
字数 3359字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1002-8935.2006.04.019
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作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 高陇桥 69 653 15.0 22.0
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研究主题发展历程
节点文献
陶瓷-金属封接
活性法
新进展
质量
再烧结
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
真空电子技术
双月刊
1002-8935
11-2485/TN
大16开
北京749信箱7分箱
1959
chi
出版文献量(篇)
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