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摘要:
论述了在集成电路生产中一种新的真空烧结工艺,讨论了它的理论依据及产生背景,并列举了通过实行该工艺所带来的显著成绩.
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文献信息
篇名 真空烧结工艺研究
来源期刊 微处理机 学科 工学
关键词 真空烧结 成绩
年,卷(期) 2006,(1) 所属期刊栏目 大规模集成电路设计、制造与应用
研究方向 页码范围 13-14,17
页数 3页 分类号 TN4
字数 2916字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1002-2279.2006.01.005
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 李莹 中国电子科技集团公司第四十七研究所 16 20 3.0 4.0
2 姚秀华 中国电子科技集团公司第四十七研究所 3 10 2.0 3.0
3 李建宏 中国电子科技集团公司第四十七研究所 2 4 1.0 2.0
传播情况
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2019(1)
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研究主题发展历程
节点文献
真空烧结
成绩
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
微处理机
双月刊
1002-2279
21-1216/TP
大16开
沈阳市皇姑区陵园街20号
1979
chi
出版文献量(篇)
3415
总下载数(次)
7
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