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真空烧结工艺研究
真空烧结工艺研究
作者:
姚秀华
李建宏
李莹
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
真空烧结
成绩
摘要:
论述了在集成电路生产中一种新的真空烧结工艺,讨论了它的理论依据及产生背景,并列举了通过实行该工艺所带来的显著成绩.
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文献信息
篇名
真空烧结工艺研究
来源期刊
微处理机
学科
工学
关键词
真空烧结
成绩
年,卷(期)
2006,(1)
所属期刊栏目
大规模集成电路设计、制造与应用
研究方向
页码范围
13-14,17
页数
3页
分类号
TN4
字数
2916字
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1002-2279.2006.01.005
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
李莹
中国电子科技集团公司第四十七研究所
16
20
3.0
4.0
2
姚秀华
中国电子科技集团公司第四十七研究所
3
10
2.0
3.0
3
李建宏
中国电子科技集团公司第四十七研究所
2
4
1.0
2.0
传播情况
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2006(0)
参考文献(0)
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引证文献(0)
二级引证文献(0)
2011(1)
引证文献(1)
二级引证文献(0)
2012(4)
引证文献(2)
二级引证文献(2)
2013(4)
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2015(2)
引证文献(0)
二级引证文献(2)
2016(2)
引证文献(0)
二级引证文献(2)
2019(1)
引证文献(0)
二级引证文献(1)
研究主题发展历程
节点文献
真空烧结
成绩
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
微处理机
主办单位:
中国电子科技集团公司第四十七研究所
出版周期:
双月刊
ISSN:
1002-2279
CN:
21-1216/TP
开本:
大16开
出版地:
沈阳市皇姑区陵园街20号
邮发代号:
创刊时间:
1979
语种:
chi
出版文献量(篇)
3415
总下载数(次)
7
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