WO3/(TiO2-SiO2)催化剂的表面分散状态及催化性能的研究

• 作者: 梁均方
• 来源期刊: 分子催化
• 学科: 化学
• 关键词: 气相流动吸附法 LRS TPR 分散状态 分散阈值
• 年，卷（期）: 2006,（5）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 424-428
• 页数: 5页
• 分类号: O643.32
• 字数: 3143字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3555.2006.05.009

摘要

用气相流动吸附法制备复合载体, 用浸渍法制备WO3/(TiO2-SiO2)催化剂. 应用LRS和TPR技术研究WO3在复合载体TIO2-SiO2表面的分散状态, 发现TiO2在SiO2表面的分散可增强WO3与载体之间的相互作用, 提高WO3在载体表面的分散阈值. 另外TPR实验证明, TiO2的存在不仅大大改善WO3的分散状态, 而且使WO3在TiO2-SiO2 的还原温度升高, WO3与载体之间的作用增强. 负载于经TiO2调变的SiO2上的催化剂其HDS、 HYD、 BHD活性高于负载于单纯 SiO2上的催化剂的活性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	梁均方	嘉应学院化学系	10	40	3.0	6.0