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摘要:
介绍了国内外制备GaN材料的历史和现状.分析了GaN材料及其薄膜的各种制备工艺的特点,并详细介绍了采用激光沉积工艺制备GaN薄膜的研究进展.
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文献信息
篇名 GaN薄膜制备及脉冲激光沉积法的研究进展
来源期刊 激光杂志 学科 工学
关键词 GaN薄膜 激光沉积
年,卷(期) 2006,(1) 所属期刊栏目 综合评述
研究方向 页码范围 5-7
页数 3页 分类号 TN248.1
字数 5131字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.0253-2743.2006.01.003
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 姜德生 武汉理工大学光纤传感技术与信息处理教育部重点实验室 202 2882 27.0 39.0
2 刘忠明 武汉理工大学光纤传感技术与信息处理教育部重点实验室 6 35 3.0 5.0
3 童杏林 武汉理工大学光纤传感技术与信息处理教育部重点实验室 31 105 6.0 8.0
4 罗梦泽 武汉理工大学光纤传感技术与信息处理教育部重点实验室 2 15 1.0 2.0
传播情况
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引文网络
引文网络
二级参考文献  (31)
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研究主题发展历程
节点文献
GaN薄膜
激光沉积
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
激光杂志
月刊
0253-2743
50-1085/TN
大16开
重庆市黄山大道杨柳路2号A塔楼1405室
78-9
1975
chi
出版文献量(篇)
8154
总下载数(次)
22
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