线形微波等离子体CVD金刚石薄膜沉积技术

• 作者: 唐伟忠 耿春雷 蒋开云 黑立富
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 线形微波等离子体 化学气相淀积 金刚石薄膜
• 年，卷（期）: 2006,（3）
• 所属期刊栏目: 技术交流
• 页码范围: 251-254
• 页数: 4页
• 分类号: O484
• 字数: 2972字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2006.03.022

摘要

本文将讨论一种新型的微波等离子体CVD设备--线形微波等离子体CVD设备和其在金刚石薄膜制备技术中的应用.利用Langmuir探针方法对线形微波等离子体CVD设备产生的H2等离子体进行的等离子体参数测量表明,在工频半波激励的条件下,H2等离子体的电子温度和等离子体密度分别约为6 eV和1×1010/cm3.尝试利用线形微波等离子体CVD设备,在直径为0.5 mm的小尺寸硬质合金微型钻头上进行了金刚石涂层的沉积,获得了质量良好的金刚石涂层.由于线形微波等离子体CVD设备产生的等离子体面积具有容易扩大的优点,因而在需要使用较大面积等离子体的场合,它将有着很好的应用前景.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	唐伟忠	北京科技大学材料科学与工程学院	106	860	16.0	21.0
2	黑立富	北京科技大学材料科学与工程学院	39	153	6.0	10.0
3	耿春雷	北京科技大学材料科学与工程学院	5	55	4.0	5.0
4	蒋开云	北京科技大学材料科学与工程学院	2	14	2.0	2.0