不同衬底制备硅薄膜的微结构研究

• 作者: 张丽伟 张宇翔 李红菊 杨根 赵剑涛
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 拉曼 SEM 硅薄膜微结构 衬底
• 年，卷（期）: 2006,（6）
• 页码范围: 1318-1321
• 页数: 4页
• 分类号: O484
• 字数: 1999字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-985X.2006.06.034

摘要

本文用等离子体增强化学气相沉积(PECVD)技术,在普通玻璃衬底、未织构的氧化锌掺铝(AZO)覆盖的普通玻璃衬底和石英衬底上室温下制备了微晶硅薄膜.然后用快速光热退火炉(RTP)在600℃下对样品进行了7min的退火处理, 借助Raman和SEM对退火前后硅薄膜微结构进行了研究,并用声子限域理论和纳晶表面效应对实验现象进行了分析.结果表明:(1) 薄膜沉积过程中,衬底结构对薄膜微结构有重要影响,相对来说石英衬底上沉积的硅薄膜最容易晶化,其次是玻璃衬底,再其次是未织构的AZO覆盖的玻璃衬底.初步分析认为,主要是因为衬底的无序结构与硅的晶体结构的失配程度不同造成的影响;(2)退火后,薄膜晶粒尺寸均增大.进一步推测, AZO薄膜微结构随退火的变化将导致硅薄膜微结构受到牵连影响.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张丽伟	郑州大学材料物理教育部重点实验室	17	90	7.0	9.0
5	赵剑涛	郑州大学材料物理教育部重点实验室	12	64	5.0	7.0
7	杨根	郑州大学材料物理教育部重点实验室	7	39	4.0	6.0
8	张宇翔	郑州大学材料物理教育部重点实验室	45	274	10.0	14.0
9	李红菊	郑州大学材料物理教育部重点实验室	7	32	3.0	5.0