真空灭弧室发展分析

• 作者: 丛吉远 刘顺新 廖敏夫 董华军
• 来源期刊: 高压电器
• 学科: 工学
• 关键词: 真空灭弧室 触头材料 电弧控制系统
• 年，卷（期）: 2006,（5）
• 所属期刊栏目: 综述
• 页码范围: 375-378
• 页数: 4页
• 分类号: TM561
• 字数: 4775字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-1609.2006.05.018

摘要

阐述了真空灭弧室的发展历史及现状,对决定真空灭弧室发展的4个关键技术:触头材料、电弧控制系统、灭弧室结构及灭弧室制造技术进行了分析,同时对真空灭弧室的发展趋势作了介绍.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	廖敏夫		94	1211	21.0	29.0
2	丛吉远		27	588	14.0	24.0
3	董华军		32	287	11.0	15.0
4	刘顺新		3	27	3.0	3.0