尺寸分布优化的硅基纳米材料的制备及其光致发光特性研究

• 作者: 杜会静
• 来源期刊: 半导体光电
• 学科: 工学
• 关键词: 激光烧蚀沉积 硅基纳米材料 挡板技术 背散射技术
• 年，卷（期）: 2006,（1）
• 所属期刊栏目: 材料、结构及工艺
• 页码范围: 37-41
• 页数: 5页
• 分类号: TN304.12
• 字数: 3088字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-5868.2006.01.011

摘要

纳米材料尺度的均匀性分布是保证纳米硅材料高效发光的基本要求,而纳米材料尺度分布的不均匀性却是纳米硅材料制备过程中的常见问题.在激光烧蚀沉积纳米硅材料中采用挡板技术和背散射技术提高了材料的尺度分布的均匀性,减少了材料表面的大颗粒,有效改善了材料的发光特性,使材料的发光强度提高,且发光峰的半峰宽变窄.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杜会静	燕山大学理学院	8	90	3.0	8.0