射频磁控溅射法在玻璃基片上沉积CeO2薄膜的研究

• 作者: 倪佳苗 梁飞 赵青南
• 来源期刊: 传感技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: 射频磁控溅射 二氧化铈薄膜 光电子能谱 X射线衍射 拉曼光谱 扫描电镜
• 年，卷（期）: 2006,（2）
• 页码范围: 281-284,288
• 页数: 5页
• 分类号: TN304.055
• 字数: 847字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-1699.2006.02.003

摘要

二氧化铈具有高折射率、介电常数和紫外吸收率,因此它广泛地应用于各种光学和电子器件.本文采用射频磁控溅射法在玻璃基片上沉积CeO2薄膜.溅射过程中,首先制备纯二氧化铈靶材,然后在不同的功率上调节不同的基片温度进行溅射.采用光电子能谱、X射线衍射、拉曼光谱和扫描电镜等测试方法表征薄膜的特性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	倪佳苗	武汉理工大学材料与工程学院	6	40	4.0	6.0
2	赵青南	武汉理工大学材料与工程学院	45	423	12.0	19.0
3	梁飞	武汉理工大学信息学院	2	21	1.0	2.0