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半导体PVD工艺用溅射靶材诞生的故事--余姚"造靶"札记
半导体PVD工艺用溅射靶材诞生的故事--余姚"造靶"札记
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摘要：
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溅射靶材的制备及发展趋势
溅射
靶材
制备
发展趋势
半导体芯片行业用金属溅射靶材市场分析
半导体靶材供应格局市场分析
平面圆形磁控溅射靶枪的磁场分析
磁控溅射
有限元
横向分量
磁通量密度
半导体硼柱形微靶电火花加工技术
惯性约束聚变
硼靶
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期刊影响力
半导体技术
主办单位：
中国电子科技集团公司第十三研究所
出版周期：
月刊
ISSN：
1003-353X
CN：
13-1109/TN
开本：
大16开
出版地：
石家庄179信箱46分箱
邮发代号：
18-65
创刊时间：
1976
语种：
chi
出版文献量（篇）
5044
总下载数（次）
38
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