新型含硅全氟磺酸膜性能研究

• 作者: 余军 潘牧 袁润章
• 来源期刊: 电源技术
• 学科: 工学
• 关键词: Nafion/SiO2复合膜 水分 形变 电阻率
• 年，卷（期）: 2006,（1）
• 所属期刊栏目: 研究与设计
• 页码范围: 51-52,59
• 页数: 3页
• 分类号: TM911.4
• 字数: 1832字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-087X.2006.01.015

摘要

采用纳米原位复合技术制备了Nafion/SiO2复合膜,TG-DSC(热失重-差热)分析表明Nafion1135/SiO2复合膜比Nafion1135膜具有较高的含水和保水能力;溶胀率测试表明Nafion1135/S1O2复合膜能明显降低膜的溶胀形变,其形变能力只有Nafion1135膜的1/4;110℃时,Nafion1135/SiO2复合膜的电阻率只有Nafion1135膜的1/2.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	袁润章	武汉理工大学材料复合新技术国家重点实验室	170	2200	24.0	36.0
2	潘牧	武汉理工大学材料复合新技术国家重点实验室	202	1380	16.0	23.0
3	余军	武汉理工大学材料复合新技术国家重点实验室	11	64	4.0	7.0