平面行星夹具均匀性修正挡板设计方法研究

• 作者: 吴明 方明 易葵 范正修 范瑞瑛 郑伟军
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: 光学薄膜 平面行星夹具 修正挡板设计 停留概率修正法
• 年，卷（期）: 2006,（4）
• 所属期刊栏目: 学术论文
• 页码范围: 286-289
• 页数: 4页
• 分类号: TH74
• 字数: 2671字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2006.04.007

摘要

众多光学系统差要求越来越严格.在整个基底表面,每一层都需要沉积得相当均匀.因为,任何单层的非均匀性将增加最终的膜厚误差.随着平面行星夹具广泛地应用于大尺寸光学薄膜制备,必须实现对行星夹具的均匀性有效控制.本文建立了平面行星夹具薄膜沉积无量纲模型,通过对夹具上各点的运动轨迹分析,提出了停留概率修正法,获得的理论均匀性与实验结果吻合.用此法设计出单片修正挡板将夹具φ560 mm范围内的不均匀性从4%改进到6%.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	方明	中国科学院上海光学精密机械研究所薄膜中心	23	170	8.0	12.0
2	易葵	中国科学院上海光学精密机械研究所薄膜中心	67	518	14.0	18.0
3	范瑞瑛	中国科学院上海光学精密机械研究所薄膜中心	15	377	9.0	15.0
4	范正修	中国科学院上海光学精密机械研究所薄膜中心	203	2312	23.0	32.0
5	吴明	中国科学院上海光学精密机械研究所薄膜中心	7	48	4.0	6.0
6	郑伟军	中国科学院上海光学精密机械研究所薄膜中心	1	18	1.0	1.0