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射频无线应用的体连接和图形化SOI LDMOSFET的比较
射频无线应用的体连接和图形化SOI LDMOSFET的比较
作者:
刘军
孙玲玲
宋朝瑞
李文钧
程新红
陈展飞
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
体接触
图形化SOI
LDMOSFET
射频
摘要:
设计并制作了一种可应用于无线通信放大器的新型的图形化SOI LDMOSFET.该器件沟道下方的埋氧层是断开的.测试表明,输出特性曲线没有发现明显的翘曲效应,关态的击穿电压达13V,在VG=4V和VD=3.6V时fT为8GHz,直流和射频性能均优于同一芯片上相同工艺条件制备的体接触LDMOSFET.
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内容分析
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相关学者/机构
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期刊文献
内容分析
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相关文献总数
(/次)
(/年)
文献信息
篇名
射频无线应用的体连接和图形化SOI LDMOSFET的比较
来源期刊
半导体学报
学科
工学
关键词
体接触
图形化SOI
LDMOSFET
射频
年,卷(期)
2006,(z1)
所属期刊栏目
研究论文
研究方向
页码范围
32-35
页数
4页
分类号
TN386
字数
508字
语种
中文
DOI
10.3321/j.issn:0253-4177.2006.z1.008
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
宋朝瑞
中国科学院上海微系统与信息技术研究所
13
48
5.0
6.0
2
程新红
中国科学院上海微系统与信息技术研究所
14
34
4.0
5.0
传播情况
被引次数趋势
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引文网络
引文网络
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共引文献
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参考文献(1)
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参考文献(3)
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2006(0)
参考文献(0)
二级参考文献(0)
引证文献(0)
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2008(1)
引证文献(1)
二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
体接触
图形化SOI
LDMOSFET
射频
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
半导体学报(英文版)
主办单位:
中国电子学会和中国科学院半导体研究所
出版周期:
月刊
ISSN:
1674-4926
CN:
11-5781/TN
开本:
大16开
出版地:
北京912信箱
邮发代号:
2-184
创刊时间:
1980
语种:
eng
出版文献量(篇)
6983
总下载数(次)
8
总被引数(次)
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