沉积工艺参数对碳纳米管薄膜场发射性能的影响

• 作者: 姚宁 张兵临 杨仕娥 樊志琴 闫书霞 马丙现 鲁占灵
• 来源期刊: 发光学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 碳纳米管 微波等离子体化学气相沉积 场发射 拉曼光谱
• 年，卷（期）: 2006,（1）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 129-133
• 页数: 5页
• 分类号: O462.4|O484.4
• 字数: 2890字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-7032.2006.01.024

摘要

利用微波等离子体化学气相沉积(MWPCVD)方法,在不锈钢衬底上直接沉积碳纳米管膜.通过SEM、拉曼光谱和XRD表征,讨论了制备温度和甲烷浓度对碳纳米管膜场发射的影响.结果表明:不同条件下制备的碳纳米管膜的场发射性能有很大差异,保持氢气的流量(100 sccm)、生长时间(10 min)、反应室压力不变,当甲烷流量为8 sccm、温度为700～800 ℃时,场发射性能最好,开启场强仅为0.8 V/μm,发射点分布密集、均匀.