一种新型的正胶剥离技术及其应用

• 作者: 信思树 普朝光 杨培志 杨明珠
• 来源期刊: 红外技术
• 学科: 工学
• 关键词: 正胶 剥离技术 金属微细图形化 二次污染
• 年，卷（期）: 2006,（2）
• 所属期刊栏目: 材料与器件
• 页码范围: 105-107
• 页数: 3页
• 分类号: TN219
• 字数: 1032字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-8891.2006.02.012

摘要

介绍了在金属微细图形化制作中常用的两种方法:刻蚀和剥离,并比较了两者的优劣.开发了一种新型的正胶剥离技术,着重解决了传统的正胶剥离技术中所存在的较为严重的"二次污染"问题,提高了其剥离精度,达到2 μm.最后介绍了新型的正胶剥离技术在实际工作中的应用.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	信思树		7	16	2.0	4.0
2	普朝光		10	87	7.0	9.0
3	杨明珠		4	33	3.0	4.0
4	杨培志		21	189	8.0	13.0