掺三氟乙酸TGS晶体生长及其性能研究

• 作者: 常新安 涂衡 肖卫强 臧和贵 艾琳
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 三氟乙酸 TGS晶体 晶体生长 居里点
• 年，卷（期）: 2006,（3）
• 页码范围: 641-644,650
• 页数: 5页
• 分类号: O782
• 字数: 2755字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-985X.2006.03.046

摘要

本文以三氟乙酸作为掺质,分别按4.4mol%、9.4mol%、13.4mol%、18.4mol%的配比进行了掺质TGS晶体生长,并对其作X射线粉末衍射分析及晶体热释电性能的测试.结果表明,三氟乙酸的掺入虽然使热释电性能有一定程度下降,但却使得晶体铁电-顺电相转变延迟,提高了晶体的居里点,并产生了一定的内偏压场.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	常新安	北京工业大学材料科学与工程学院	52	425	11.0	18.0
2	臧和贵	北京工业大学材料科学与工程学院	32	204	8.0	12.0
3	肖卫强	北京工业大学材料科学与工程学院	47	227	7.0	12.0
4	艾琳	北京工业大学材料科学与工程学院	3	14	2.0	3.0
5	涂衡	北京工业大学材料科学与工程学院	4	29	3.0	4.0