用电子束曝光方法在优化设计的绝缘体上硅脊状波导上实现布拉格光栅的制作和评价

• 作者: 和田恭雄 宇高胜之 开桂云 张伟刚 武志刚 王志 董孝义 袁树中
• 来源期刊: 半导体学报
• 学科: 工学
• 关键词: 集成光学 布拉格光栅 绝缘体上硅 脊状光波导
• 年，卷（期）: 2006,（8）
• 所属期刊栏目: 研究快报
• 页码范围: 1347-1350
• 页数: 4页
• 分类号: TN256
• 字数: 2353字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-4177.2006.08.002

摘要

报道了一种用电子束曝光的方法在绝缘体上硅的脊状光波导上制做布拉格光栅的技术.考虑到实际的光子学集成的应用,讨论了这个带有布拉格光栅的脊状光波导的优化设计,给出了该布拉格光栅的测试和理论模拟结果.通过薄化绝缘体上硅的波导层的厚度和光栅的深腐蚀加工,获得了高达30cm-1的光栅耦合系数.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张伟刚	南开大学现代光学研究所	88	1415	22.0	34.0
2	开桂云	南开大学现代光学研究所	127	2577	29.0	42.0
3	董孝义	南开大学现代光学研究所	296	5721	37.0	55.0
4	王志	南开大学现代光学研究所	51	299	11.0	15.0
5	袁树中	南开大学现代光学研究所	2	7	1.0	2.0