GeSb2Te4薄膜表面形貌及力学性能的分形表征

• 作者: 丁建宁 付永忠 杨继昌 解国新
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 物理学
• 关键词: GeSb2Te4薄膜 分形 表面形貌 力学性能
• 年，卷（期）: 2006,（4）
• 所属期刊栏目: 学术论文
• 页码范围: 282-285
• 页数: 4页
• 分类号: O484
• 字数: 3070字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2006.04.006

摘要

以不同溅射功率在Si(111)基底上制备了GeSb2Te4薄膜.用原子力显微镜和X射线衍射仪以及高度相关函数法分析了薄膜生长表面形貌的分形维,并用纳米硬度计研究了薄膜表面的力学性能.结果表明,随着溅射功率增大,薄膜表面质量提高,分形维增大,且硬度和弹性上升;但超过一定值后,薄膜表面质量又会降低,分形维也随之减小,硬度和弹性下降.并指出借助分形维数可以优化溅射工艺参数,并能够较好地表征薄膜表面力学性能.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	丁建宁	江苏大学微纳米技术研究中心	146	769	14.0	19.0
2	杨继昌	江苏大学微纳米技术研究中心	108	1546	22.0	34.0
3	付永忠	江苏大学微纳米技术研究中心	20	79	6.0	7.0
4	解国新	江苏大学微纳米技术研究中心	12	37	4.0	5.0