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摘要:
介绍了两种与栅氧化层失效有关的模型以及用于估计芯片寿命的热阻模型.随着晶体管特征尺寸的减小,现有的栅失效模型不能提供准确的计算和预测,因此提出了新的适用于小尺寸晶体管的栅失效模型.同时提出了用于评价芯片寿命的热阻和结温的估计模型.
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内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 薄栅CMOS的可靠性模型
来源期刊 半导体学报 学科 工学
关键词 TDDB 热载流子 热阻 结温
年,卷(期) 2006,(z1) 所属期刊栏目 研究论文
研究方向 页码范围 257-261
页数 5页 分类号 TN43
字数 3296字 语种 中文
DOI 10.3321/j.issn:0253-4177.2006.z1.065
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 吴月花 北京工业大学电子信息与控制工程学院 7 15 2.0 3.0
2 李志国 北京工业大学电子信息与控制工程学院 57 418 12.0 18.0
3 廖京宁 北京工业大学电子信息与控制工程学院 3 8 2.0 2.0
4 郭春生 北京工业大学电子信息与控制工程学院 44 302 10.0 15.0
5 刘鹏飞 北京工业大学电子信息与控制工程学院 13 22 3.0 4.0
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研究主题发展历程
节点文献
TDDB
热载流子
热阻
结温
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
半导体学报(英文版)
月刊
1674-4926
11-5781/TN
大16开
北京912信箱
2-184
1980
eng
出版文献量(篇)
6983
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