界面生长型小尺寸金刚石聚晶研制

• 作者: 刘衍聪 岳吉祥 陈勇
• 来源期刊: 矿冶工程
• 学科: 工学
• 关键词: 金刚石聚晶 工艺研究 界面生长 生长机理 热稳定性
• 年，卷（期）: 2006,（1）
• 所属期刊栏目: 材料
• 页码范围: 85-87
• 页数: 3页
• 分类号: TQ164
• 字数: 2973字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.0253-6099.2006.01.024

摘要

在分析国内外钻探用金刚石聚晶应用及性能的基础上,研制开发方形□1×1×1界面生长型金刚石聚晶,具体采用0.05mm钴片或钴铁片(5%铁)扩散工艺,对工艺组装制备及合成工艺条件进行较详细分析论证,建立一种类似美国GE公司产品性能的界面生长型金刚石聚晶合成工艺,采用强酸处理方法进行去除残余金属钴,对合成产品进行电子探针、转靶X射线衍射等分析,研究证明其结构基本是D-D键结合的高晶体,金刚石晶粒之间是D-D键错综连接形成多孔网状结构,产品具备高自锐性和热稳定性,是取代大颗粒天然和人造单晶理想选择,最后对生长机理进行初步分析,并提出界面生长机理,金刚石颗粒在金属Go作用下在晶体界面处以D-D键结合生长过程.