APC技术在化学机械研磨工艺中的应用

• 作者: 秦彩云 金翠
• 来源期刊: 辽宁化工
• 关键词: 化学机械研磨 计算机技术 自动控制 APC系统
• 年，卷（期）: 2006,（7）
• 所属期刊栏目: 开发与应用
• 页码范围: 407-409
• 页数: 3页
• 分类号: TP273
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-0935.2006.07.013

摘要

介绍了基于化学机械研磨(CMP)工艺,在Unix和SDT的开发环境下,用VB、C语言在Client和DB(Data Base)之间建立APC SDT Server的方法,以及创建Oracle数据库表的方法,实现了系统用户界面、核心APC Srver和数据库表的设计,验证了APC系统的性能

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	秦彩云	北京石油化工学院信息工程学院	12	73	5.0	8.0
2	金翠	北京石油化工学院信息工程学院	1	3	1.0	1.0