射频反应磁控溅射制备低辐射薄膜

• 作者: 王德苗 董树荣 金炯
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: 低辐射薄膜 射频磁控溅射 保护层 多层膜 透射率
• 年，卷（期）: 2006,（1）
• 所属期刊栏目: 学术论文
• 页码范围: 28-31,56
• 页数: 5页
• 分类号: TB43
• 字数: 2530字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2006.01.008

摘要

采用射频反应磁控溅射法制备了低辐射薄膜.对低辐射膜的薄膜结构的设计和测试结果表明:较合适的膜层结构是空气/二氧化钛/钛/银/二氧化钛/玻璃基片的多层结构.用扫描电镜分析了保护层钛层的作用,研究表明:银膜很容易氧化失效,失去反射红外紫外光作用,在表面镀覆钛保护层可以很好地保护银,避免银氧化,从而提高使用寿命.用分光光度计测试样品的透射率,当保护层钛层厚度为1 nm时,相应的膜系在可见光区(380 nm～780 nm),最高透射率可达82.4%,平均透射率是75%;在近红外区(780 nm～2500 nm)的平均透射率为16.2%,可以满足建筑物幕墙玻璃等低辐射膜的要求.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	董树荣	浙江大学信息与电子工程系	51	627	14.0	23.0
2	王德苗	浙江大学信息与电子工程系	66	789	15.0	24.0
3	金炯	浙江大学信息与电子工程系	2	46	2.0	2.0