射频磁控溅射掺氮ZnO薄膜的制备与表征

• 作者: 丁瑞钦 朱慧群
• 来源期刊: 半导体技术
• 学科: 工学
• 关键词: 射频磁控溅射 ZnO薄膜 气体组分 氮钝化
• 年，卷（期）: 2006,（7）
• 所属期刊栏目: 支撑技术
• 页码范围: 515-519
• 页数: 5页
• 分类号: TN305.92
• 字数: 3569字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-353X.2006.07.011

摘要

以ZnO为靶材,采用射频磁控溅射法,在衬底温度为450℃、混合气体压强为1.3Pa的条件下,在石英玻璃和抛光单晶硅衬底上沉积了一系列呈六角纤锌矿结构、沿(0002)晶面高度取向生长的ZnO薄膜.利用X射线衍射、四探针、原子力显微镜、吸收光谱和光致荧光光谱等实验分别对薄膜样品的晶体结构、表面形貌和光电特性进行了分析表征.结果表明,氮对ZnO薄膜的缺陷有明显的钝化作用,气体组分、溅射功率是影响ZnO薄膜沿C轴择优取向生长、结构特征和光电性质的重要因素.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	朱慧群	五邑大学薄膜与纳米材料研究所	29	82	4.0	6.0
2	丁瑞钦	五邑大学薄膜与纳米材料研究所	29	115	6.0	9.0