热丝法CVD生长金刚石薄膜的简化工艺研究

• 作者: 刘刚 刘忆
• 来源期刊: 半导体技术
• 学科: 工学
• 关键词: 金刚石薄膜 热丝法化学气相沉积 本底真空 灯丝温度
• 年，卷（期）: 2006,（7）
• 所属期刊栏目: 制造技术
• 页码范围: 498-502
• 页数: 5页
• 分类号: TB43
• 字数: 3381字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-353X.2006.07.006

摘要

研究了改变本底真空对薄膜质量的影响,给出了在该系统中得到质量较高金刚石薄膜的最小本底真空值;阐述了降低灯丝温度对薄膜质量的影响.在较低压力下用甲烷氢气作碳源在1500～1700℃合成质量较高的金刚石薄膜,在灯丝温度为1300℃时,获得了微观形貌为球状物的薄膜.用扫描电镜、喇曼光谱和X-ray衍射(Cu靶)对结果进行分析.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘忆	辽宁工程技术大学材料系	25	313	10.0	17.0
2	刘刚	辽宁工程技术大学材料系	4	23	3.0	4.0