强电流直流扩展弧金刚石沉积技术的研究

• 作者: 刘素田 吕反修 唐伟忠 耿春雷 黑立富
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 工学
• 关键词: 强电流直流扩展弧 等离子体炬 改进 金刚石涂层 均匀性
• 年，卷（期）: 2006,（3）
• 所属期刊栏目: 工艺研究
• 页码范围: 42-44
• 页数: 3页
• 分类号: TB43
• 字数: 1748字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3660.2006.03.015

摘要

采用自行研制的Q-500金刚石涂层沉积设备,同时采用两种不同结构的等离子体炬对经酸碱二步法处理后的硬质合金钻杆(YF06)分别进行了金刚石涂层的沉积,并对沉积后的样品表面进行了分析和研究.初步的研究结果表明:等离子体炬的结构对金刚石涂层的沉积影响很大,改进前的等离子体炬所产生的弧柱不稳,导致沉积温度波动幅度大,而改进后的等离子体炬能产生稳定的弧柱,沉积温度变化不大并且沉积的金刚石涂层具有大面积、均匀性好和高质量的特点.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吕反修	北京科技大学材料科学与工程学院	151	1208	18.0	24.0
2	唐伟忠	北京科技大学材料科学与工程学院	106	860	16.0	21.0
3	刘素田	北京科技大学材料科学与工程学院	5	34	3.0	5.0
4	黑立富	北京科技大学材料科学与工程学院	39	153	6.0	10.0
5	耿春雷	北京科技大学材料科学与工程学院	5	55	4.0	5.0