光化学氧化法对阴离子表面活性剂降解的初步研究

• 作者: 姜少红 季民 杨勇
• 来源期刊: 四川环境
• 学科: 地球科学
• 关键词: 阴离子表面活性剂(LAS) UV/H2O2 废水处理
• 年，卷（期）: 2006,（1）
• 所属期刊栏目: 试验研究
• 页码范围: 11-13
• 页数: 3页
• 分类号: X703
• 字数: 2434字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3644.2006.01.004

摘要

本试验采用UV/H2O2光氧化法处理含有较高浓度阴离子表面活性剂(LAS)的模拟废水,研究了H2O2投加量、pH值、光照时间、紫外灯光强对LAS降解率的影响.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	季民	天津大学环境科学与工程学院	220	3455	32.0	47.0
2	杨勇	天津大学环境科学与工程学院	32	237	8.0	13.0
3	姜少红	天津大学环境科学与工程学院	2	45	2.0	2.0