微通道板离子壁垒膜及其对入射离子的阻止作用

• 作者: 付申成 刘庆飞 吴奎 姜德龙 李野 王国政 田景全 端木庆铎 高延军
• 来源期刊: 发光学报
• 学科: 工学
• 关键词: 微通道板 离子壁垒膜 核阻止 电子阻止 蒙特卡罗模拟
• 年，卷（期）: 2006,（6）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 1015-1020
• 页数: 6页
• 分类号: TN146
• 字数: 3516字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-7032.2006.06.035

摘要

给出了三代微光像管中微通道板离子壁垒膜对入射正离子阻止作用的描述,引进了核阻止本领、电子阻止本领和平均射程的概念.结合Tomas-Fermi屏蔽势进行了分析讨论和Monte-Carlo模拟计算,给出Al2O3和SiO2薄膜对不同能量垂直入射时的核、电子阻止的定量结果.得出了Al2O3薄膜阻止本领比SiO2阻止本领高的结论.证实了选用Al2O3离子壁垒膜的科学性和可行性.