脉冲激光沉积Al膜的沉积模式及沉积速率研究

• 作者: 戢明 曾晓雁 王泽敏
• 来源期刊: 激光技术
• 学科: 工学
• 关键词: 薄膜 脉冲激光沉积 沉积模式 厚度均匀性 沉积速率
• 年，卷（期）: 2006,（3）
• 所属期刊栏目: 应用
• 页码范围: 265-267,310
• 页数: 4页
• 分类号: TB43
• 字数: 2636字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3806.2006.03.029

摘要

为了给脉冲激光沉积(PLD)法沉积大面积均匀薄膜的应用提供相关的理论依据,以纯铝块作为靶材,采用PLD法在同轴和旁轴两种模式下对比研究了 Al薄膜的厚度均匀性.同时,在旁轴的沉积模式下分别研究了基片温度、激光功率和重复频率对Al薄膜沉积速率的影响规律.实验结果表明,采用PLD方法在旁轴的沉积模式下获得的Al薄膜的厚度更加均匀.随着基片温度的增加,薄膜的沉积速率反而降低.升高激光功率,薄膜的沉积速率也随之提高.而在激光重复频率的变化过程中,Al薄膜的沉积速率有一最大值.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	曾晓雁	华中科技大学激光技术国家重点实验室	144	2006	25.0	36.0
2	王泽敏	华中科技大学激光技术国家重点实验室	23	293	10.0	17.0
3	戢明	华中科技大学激光技术国家重点实验室	5	146	4.0	5.0