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摘要:
介绍了W/Ti合金扩散阻挡层在集成电路布线技术中的作用及应用情况. 阐述了W/Ti合金靶材的特性参数-相对密度、微观结构、金属纯度, 与W/Ti合金薄膜性能之间的关系, 指出高密度、高纯度、富Ti相含量少的合金靶材是制备优良W/Ti合金扩散阻挡层薄膜的基本条件. 介绍了制备W/Ti合金靶材的3种方法-真空热压、惰性气体热压、热等静压, 并概述了不同方法制备的靶材性能上的差异, 给出制备高性能W/Ti合金靶材的工艺条件.
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关键词热度
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文献信息
篇名 W/Ti合金靶材及其制备技术
来源期刊 稀有金属 学科 工学
关键词 溅射靶材 扩散阻挡层 热压
年,卷(期) 2006,(1) 所属期刊栏目 综合评述
研究方向 页码范围 95-99
页数 5页 分类号 TF1
字数 3732字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.0258-7076.2006.01.021
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 郭奋 北京化工大学教育部超重力研究中心 98 1828 24.0 38.0
2 储茂友 25 211 10.0 14.0
3 王星明 24 157 9.0 12.0
4 赵鑫 4 54 3.0 4.0
8 王赞海 3 34 2.0 3.0
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扩散阻挡层
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稀有金属
月刊
0258-7076
11-2111/TF
大16开
北京新街口外大街2号
82-167
1977
chi
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