Gd-Sn-Te体系稀磁半导体合金的合成

• 作者: 庄应烘 朱其明 湛永钟 邓健秋
• 来源期刊: 金属热处理
• 学科: 工学
• 关键词: 稀磁半导体 Gd-Sn-Te体系 合成
• 年，卷（期）: 2006,（2）
• 所属期刊栏目: 材料研究
• 页码范围: 64-66
• 页数: 3页
• 分类号: TF124|TN304.1
• 字数: 1985字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.0254-6051.2006.02.016

摘要

介绍了用合成法制备稀磁半导体Gd-Sn-Te体系合金试样的工艺,利用金相显微镜和X射线衍射仪分析了试样的成分和组织.结果表明,该方法制备的试样成分和组织均匀,达到了平衡,克服了合金成分偏离,满足相图和相结构研究的试验要求.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	庄应烘	广西大学有色金属材料及其加工新技术教育部重点实验室	19	118	6.0	10.0
2	湛永钟	广西大学有色金属材料及其加工新技术教育部重点实验室	36	259	8.0	15.0
3	邓健秋	广西大学有色金属材料及其加工新技术教育部重点实验室	3	4	1.0	2.0
4	朱其明	广西大学有色金属材料及其加工新技术教育部重点实验室	1	0	0.0	0.0