聚合物阵列波导光栅的制作技术

• 作者: 唐晓辉 张国伟 张大明 许英朝 邓文渊 鄂书林
• 来源期刊: 发光学报
• 学科: 工学
• 关键词: 聚合物阵列波导光栅 双掩膜 蒸气回溶
• 年，卷（期）: 2006,（3）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 413-416
• 页数: 4页
• 分类号: TN929.1
• 字数: 2207字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-7032.2006.03.026

摘要

研究了聚合物阵列波导光栅AWG制作的几个关键技术.首先,为了克服反应离子刻蚀过程中单独使用光刻胶作掩膜而导致的光波导形状和尺寸偏离设计的缺点,采用了光刻胶与金属掩膜相结合的双掩膜技术进行器件制作.详细介绍了双掩膜技术制备聚合物AWG的过程,并得出铝膜作为掩膜的最佳厚度为100nm左右.测试给出了使用和没有使用双掩膜的对比结果,该结果表明使用双掩膜技术制作的波导质量明显好于单独使用光刻胶作掩膜制作的结果.其次,采用蒸气回溶技术来减小反应离子刻蚀产生的波导表面和侧壁的起伏,从而降低了波导的散射损耗.结果表明,蒸气回溶技术使所制作的波导表面的均方根粗糙度从41.307 nm降低到24.564 nm.