压弯光栅线密度变化分析

• 作者: 付绍军 刘斌 徐向东 王秋平
• 来源期刊: 光学精密工程
• 学科: 物理学
• 关键词: 压弯光栅 线密度 有限元法
• 年，卷（期）: 2006,（2）
• 所属期刊栏目: 现代应用光学
• 页码范围: 224-228
• 页数: 5页
• 分类号: O436.1
• 字数: 2466字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1004-924X.2006.02.015

摘要

理论上给出了光栅在子午面内弯曲为任意面形后,光栅线密度的变化关系,并采用有限元分析软件ABAQUS/Standard进行了模拟分析.理论与模拟分析的结论说明,压弯后光栅线密度是由光栅本身参数及压弯面形严格决定的.在此基础上设计一个简单的单色器,并在数值上给出了压弯后光栅线密度变化对单色器件性能的影响.由于光栅面形及其线密度的变化,不仅对光栅成像的聚焦特性有所改善,对彗差等高阶次像差的影响也是不可忽略的.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘斌	中国科学技术大学国家同步辐射实验室	230	3876	32.0	56.0
2	徐向东	中国科学技术大学国家同步辐射实验室	74	701	15.0	21.0
3	付绍军	中国科学技术大学国家同步辐射实验室	69	435	12.0	15.0
4	王秋平	中国科学技术大学国家同步辐射实验室	37	235	8.0	13.0