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摘要:
采用射频磁控溅射法在玻璃基片上制备了NdTbCo/Cr非晶垂直磁化膜.探讨了溅射功率与溅射时间对薄膜磁性能的影响,发现当溅射功率为250 W,溅射时间为4 min时,垂直膜面方向矫顽力为272.8 kA·m-1,剩磁矩形比达到0.801,可以较好地满足高密度垂直磁记录的要求.研究了 Nd掺杂对薄膜磁性能与磁光性能的影响,发现随着Nd掺杂量的增多,薄膜的矫顽力从413.8下降为210.9 kA·m-1,饱和磁化强度与克尔旋转角则分别从144 kA·m-1和0.2720°上升为252 kA·m-1和0.3258°.温度对NdTbCo/Cr薄膜克尔旋转角的影响也与Nd的掺杂量密切相关.
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文献信息
篇名 NdTbCo/Cr非晶垂直磁化膜的制备及性能
来源期刊 稀有金属 学科 工学
关键词 射频磁控溅射 非晶垂直磁化膜 矫顽力 剩磁矩形比 饱和磁化强度 克尔旋转角
年,卷(期) 2006,(4) 所属期刊栏目 研究论文
研究方向 页码范围 432-435
页数 4页 分类号 TM271
字数 2605字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.0258-7076.2006.04.002
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 杨晓非 华中科技大学电子科学与技术系 69 652 12.0 24.0
2 程伟明 华中科技大学电子科学与技术系 14 52 4.0 6.0
3 林更琪 华中科技大学电子科学与技术系 26 85 4.0 7.0
4 李佐宜 华中科技大学电子科学与技术系 59 267 7.0 13.0
5 晋芳 华中科技大学电子科学与技术系 12 53 4.0 6.0
6 孙翔 华中科技大学电子科学与技术系 3 5 2.0 2.0
传播情况
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射频磁控溅射
非晶垂直磁化膜
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饱和磁化强度
克尔旋转角
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相关学者/机构
期刊影响力
稀有金属
月刊
0258-7076
11-2111/TF
大16开
北京新街口外大街2号
82-167
1977
chi
出版文献量(篇)
4172
总下载数(次)
13
总被引数(次)
39184
相关基金
国家自然科学基金
英文译名:the National Natural Science Foundation of China
官方网址:http://www.nsfc.gov.cn/
项目类型:青年科学基金项目(面上项目)
学科类型:数理科学
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